半自動單腔光刻版清洗機通過浸潤、Brush刷洗,配合ACE/IPA沖洗,兆聲清洗,可以有效去除光刻版表面光刻膠殘留,并對光刻版表面進行清洗。
設備主要由工藝腔體、升降掃描擺臂模塊、刷洗擺臂模塊、供排液系統、空氣凈化及靜電消除系統、排風系統、中央控制系統等組成。工藝腔體可配置Brush刷洗、ACE清洗、IPA清洗、兆聲清洗、氮氣吹掃、氮氣吹干、離心甩干等功能。
? 兼容多種規格尺寸的光刻板
? 分層式腔體設計
? 采用干進干出加工模式
? 化學液可循環再利用
? 低藥液消耗
? 小型化設計,滿足實驗室需求
化 學 品
ACE/NMP/EKC/IPA
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