三個維度下國內半導體設備國產化率的觀察
半導體設備是產業發展和創新的基石，一代設備、一代工藝、一代產品。一條半導體生產線設備總投資約占總投資的70%至80%。半導體設備對信息產業有著成千上萬倍的放大作用。半導體設備年產值幾百億美金，支撐的是年產值幾千億美金的半導體制造，這之上是年產值幾萬億美元的電子系統，電子系統又支撐了年產值幾十萬億美元量級的軟件、網絡、電商、傳媒、大數據應用等。
中國大陸是全球最大的半導體市場。2021年全球半導體設備市場規模923億美元，中國大陸占226億美元，占全球24.5%的市場。那么，中國半導體設備市場國產化率的進展如何呢？以下是國內半導體設備公司積塔從三個維度對半導體設備國產化率的觀察。
其一：從市場的角度看，國產半導體設備廠商市占率有所提升。
但市占率比較小。當前，全球半導體設備競爭格局高度集中，美日歐設備供應商主導，2021年前五名廠商市占率達73.4%。分別是應用材料、ASML、東京電子、泛林、科磊這五大家。中國半導體設備廠商這兩年發展勢頭強勁。但總體在全球市場的占比還是小于2%。這也顯示國產替代空間較大。
其二，從工藝來看國產半導設備國產化的現狀。
目前，國內半導體設備廠商基本能覆蓋薄膜、光刻、量測、研磨拋光、刻蝕、背面加工藝區域的生產制造要求。具體在光刻機、涂膠顯影、離子注入機、擴散爐、化學氣相沉積、物理氣相沉積、介質刻蝕、硅刻蝕、濕法刻蝕、CMP、量測設備都有國產設備廠商覆蓋。工藝節點上，除了光刻機，大部分國產設備都能覆蓋28納米，其中刻蝕設備已經突破5納米技術節點。
具體到8吋和12吋線的情況，8吋線核心國產設備中，化學機械拋光、刻蝕區，熱處理設備量產比例較高，但在量測區、背面區領域暫未開發設備較多。在12吋產線上，國產設備里化學機械拋光、濕法刻蝕、CVD設備量產比例較高，量測區、光刻、熱處理暫未開發的設備較多。
總的說來，刻蝕區、清洗區、薄膜區的國產覆蓋率相對突出，但細分種類存在不全的情況。但在擴散區高溫爐管、高能離子注入、薄膜區的高密度等離子設備、大部分量測設備存在空白。
其三、從公開招標的結果看半導體設備國產化。
從國內設備招標的公開數據看，國內工藝設備國產化率大概在15-25%區間，其中去膠、擴散、刻蝕、CMP設備的國產化率相對較高，離子注入、過程控制、光刻相對較低。從市場來看，中國大陸已是全球最大的半導體市場，未來將一直保持全球第三的市場地位。目前，集成電路設備的國產化率比較低，市場替代空間非常巨大。
從上述三個維度來觀察，近年來，在國產設備取得進展的同時，也存在一些問題，國產設備軟件兼容性、工藝冗余度、工作效率等方面存在不足，而且部分核心設備備件（射頻電源、氣體流量計）基本依靠國外廠商，存在卡脖子風險。
作為業內創新企業，積塔半導體表示，希望加強產業鏈上下游協同創新，本土晶圓線要敢于給國產設備和零部件驗證機會，切實發揮大生產線組織協調的作用。當然，設備原廠要發揮連接兩端的串聯作用，積極主動推進對國產零部件廠商的認證并推薦給客戶。
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